ChemInform Abstract: DEPOSITION OF POLYCRYSTALLINE SILICON BY PYROLYSIS OF SILANE IN ARGON

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Abstract

Abstract Die Abscheidung von Si durch Pyrolyse von SiH 4 in Ar an thermisch erhaltenen SiO 2 ‐ Substraten wird als ein Drei‐Stufen‐Vorgang angesehen , der eine Adsorption und Zersetzung von SiH 4 an der Substratoberfläche und eine Desorption von Wasserstoff aus der Oberfläche des Substrats einschließt. Diese Annahme wird experimentell bestätigt.

Topics & Keywords

Advanced ceramic materials synthesis Silicon Nanostructures and Photoluminescence Silicon Effects in Agriculture

UN Sustainable Development Goals

Clean water and sanitation

Publication Details

Published in: Chemischer Informationsdienst

Volume 6, Issue 31

DOI: 10.1002/chin.197531038

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